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八巻 徹也; Nuryanthi, N.*; 越川 博; 澤田 真一; 箱田 照幸; 浅野 雅春; 前川 康成; Voss, K.-O.*; Severin, D.*; Seidl, T.*; et al.
no journal, ,
本研究では、より穏和なエッチング条件の下で、潜在飛跡以外の未照射部へ化学的損傷が及ばない一方、より速く効率的にポリフッ化ビニリデン(PVDF)イオン穿孔膜を作製することを目的として、潜在飛跡内に存在する化学種の構造や反応性を調べた。その結果、照射と同時に生成したラジカルを介して、PVDF鎖中及び切断末端の不飽和結合がおもに生成することがわかった。また、このような飛跡内の生成物にのみ作用しエッチングを加速するための改質過程、いわゆる前処理の方法としてオゾン曝露の有効性を示した。